第一四七五章 90nm光刻机 (第1/2页)

「邓院长，我代表京城半导体公司，奖励研发部500万元。」
　　
　　啪啪……
　　
　　8月15日，接到总经理魏建国的电话，京城光刻机研究院研发成功了90nm制程工艺光刻机，孙健非常高兴，第二天上午就乘飞机从江城来到京城，在京城光刻机研究院会议室接见了包括院长邓国辉院士、副院长欧阳明院士、副院长陈伟长院士、光刻机自动化研究所所长夏季常院士在内的200多名90nm制程工艺光刻机研发部的研发人员。
　　
　　京城光刻机研究院在不到一年的时间内研发成功90nm光刻机，厚积薄发，孙健不会感到惊讶，经过近9年的快速发展，加上舍得投资，京城光刻机研究院下属10家研究所（部）人才济济，国内近八成的顶尖光刻机人才都在这里。
　　
　　京城半导体公司拥有4名光刻机专业顶尖的院士，教授、研究员、教授级工程师近百人，这在国内科研院所和公司中都是绝无仅有的事情。
　　
　　如今没有专业博士文凭，很难进入京城光刻机研究院。
　　
　　1998年9月，GCA和Nikon先后研发成功90nm制程工艺的光刻机；2000年8月，Intel、IBM、IT、AMD、HP各自投资25亿美元（包括基建费用）建设的一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线先后量产。
　　
　　2000年，ASML、Canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机。
　　
　　1999年，PGCA半导体公司申请从GCA购买一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到美国商务部否决，重新申请购买一条12英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线，3个月后才批准，2000年12月7日，这条生产线才量产。
　　
　　得陇望蜀！
　　
　　2000年12月底，孙健怂恿中村三郎代表曙光东芝晶圆公司，从东芝公司引进一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到日本半导体协会拒绝；曙光东芝晶圆公司花费15亿美元（包括从BSEC采购40台250nm制程工艺的光刻机）从日本引进了一条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，如今还处于设备安装阶段，9月下旬试生产。
　　
　　国内有了二条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，台积电、三星都只有一条。
　　
　　京城半导体公司（BSEC）研制成功的90nm制程工艺的光刻机虽然比GCA和Nikon晚了近三年的时间，比ASML、Canon、SVG晚了一年多的时间，但已经是一项了不起的成就。美西方国家禁止出口最先进的技术和生产线给国内，孙健多次遭遇「有米无锅」的局面。
　　
　　1993年3月，孙健奉命接手工业部四十五所、中K院微电子研究中心和中K院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂，组建BSEC，BSEC生产的光刻机，制程工艺同GCA和Nikon相比，相差四代，落后20年都不止！
　　
　　BSEC同中K院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂、金城金属气体厂等97家科研院所和公司长期保持合作关系，联合开发单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术攻关项目。
　　
　　半导体产业发展日新月异，要不是全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了，GCA和Nikon早就研制65nm制程工艺，甚至40nm制程工艺的光刻机了。
　　
　　

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